Helium Implantation Effects on Retention Behavior of Hydrogen Isotopes in Oxygen-Contained Boron Films
Yoshikawa, A., Oya, Y., Miyauchi, H., Nakahata, T., Nishikawa, Y., Suda, T., Igarashi, E., Oyaidzu, M., Tokitani, M., Iwakiri, H., Yoshida, N., Okuno, K.Том:
52
Мова:
english
Журнал:
Fusion Science and Technology
DOI:
10.13182/FST07-A1602
Date:
November, 2007
Файл:
PDF, 469 KB
english, 2007
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
