Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Incorporation of Ge on High K...

Incorporation of Ge on High K Dielectric Material for Different Fabrication Technologies (HBT, CMOS) and Their Impact on Electrical Characteristics of the Device

Khan, Zeeshan Najam, Khan, Shayan Ali, Shakeel, Sobia
Наскільки Вам сподобалась ця книга?
Яка якість завантаженого файлу?
Скачайте книгу, щоб оцінити її якість
Яка якість скачаних файлів?
Том:
2018
Мова:
english
Журнал:
Journal of Nanomaterials
DOI:
10.1155/2018/2497352
Date:
October, 2018
Файл:
PDF, 4.16 MB
english, 2018
Виконується конвертація в
Конвертація в не вдалась