Influence of mask substrate materials on resist sidewall roughness in deep X-ray lithography
G. Aigeldinger, C.-Y. P. Yang, D. M. Skala, D. H. Morse, A. A. Talin, S. K. Griffiths, J. T. Hachman, J. T. CeremugaТом:
14
Мова:
english
Сторінки:
10
DOI:
10.1007/s00542-007-0419-9
Date:
February, 2008
Файл:
PDF, 576 KB
english, 2008
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
