Structure of aluminium oxide films deposited by d.c. reactive sputtering
B. Goranchev, V. Orlinov, F. Przyborowski, Chr. WeissmantelТом:
70
Рік:
1980
Мова:
english
Сторінки:
6
DOI:
10.1016/0040-6090(80)90418-6
Файл:
PDF, 762 KB
english, 1980