Nanocrystalline silicon films deposited with a modulated hydrogen dilution ratio by catalytic CVD at 200 °C
Tae-Hwan Kim, Kyoung-Min Lee, Jae-dam Hwang, Wan-Shick HongТом:
9
Рік:
2009
Мова:
english
Сторінки:
1
DOI:
10.1016/j.cap.2008.12.041
Файл:
PDF, 448 KB
english, 2009
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
