Ion-conducting, sub-100 nm-thick film of amorphous hafnium silicate
Yoshitak Aoki, Hiroki Habazaki, Toyoki KunitakeТом:
181
Рік:
2010
Мова:
english
Сторінки:
7
DOI:
10.1016/j.ssi.2009.02.016
Файл:
PDF, 1009 KB
english, 2010