Influence of film structure on gas barrier properties of SiOxNy films
Daisuke Yonekura, Katsuhiro Fujikawa, Ri-ichi MurakamiТом:
205
Рік:
2010
Мова:
english
Сторінки:
6
DOI:
10.1016/j.surfcoat.2010.06.024
Файл:
PDF, 790 KB
english, 2010
File converter
Більше результатів пошуку
More benefits 
