Pre-breakdown noise in electrically stressed thin SiO2...

Pre-breakdown noise in electrically stressed thin SiO2 layers of MOS devices observed with C-AFM

M. Porti, S. Meli, M. Nafrı́a, X. Aymerich

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

Рік:

2003

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/s0026-2714(03)00173-2

Файл:

PDF, 160 KB

english, 2003

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась