Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024 Про збір коштів

Volume 110

6

Arsenic atomic layer doping in Si using AsH3

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 910 KB
english, 2015
7

Threshold voltage and transconductance shifting reliance on strained-SiGe channel dimension

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 466 KB
english, 2015
10

Enhanced light emission from Ge by GeO2 micro hemispheres

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 1005 KB
english, 2015
11

Facet engineering for SiGe/Si stressors in advanced CMOS technology

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 974 KB
english, 2015
15

SiGe channel deposition by batch epitaxy

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 1.59 MB
english, 2015
16

Novel Si–Ge–C superlattices and their applications

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 4.09 MB
english, 2015
17

Editorial Board

Рік:
2015
Мова:
english
Файл:
PDF, 62 KB
english, 2015