Dammel,: шукати на сайті Z-Library

Найбільша колекція наукових статей у сіті. 70,000,000+ безкоштовних статей.

Пожертвування 15 вересня 2024 – 1 жовтня 2024

Z-Library - одна з найбільших онлайн-бібліотек у світі, в якій зберігається більше 17,000,000 книг та 84,837,000 статей. Ми намагаємось зробити літературу доступною кожному. Сьогодні (15 вересня 2024) ми відкриваємо додатковий збір пожертвувань на підтримку та розвиток проекту.

Також БЕЗЛІМТНІ завантаження (протягом 31 дня після завершення пожертвування) доступні для ВСІХ користувачів, які підтримають проект в період збору коштів до 1 жовтня 2024.

Про збір коштів Детальніше

Підтримати

Книги
Статті (215)
Найпопулярніші
Перелік
- Перелік
- Таблиця

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Advances in Resist Technology and Processing XX - Evaluation of novel fluorinated resist matrices for 157-nm lithography

Houlihan, Francis M., Romano, Andrew R., Rentkiewicz, David, Sakamuri, Raj, Dammel, Ralph R., Conley, Will, Rich, Georgia K., Miller, Daniel, Rhodes, Larry F., McDaniels, Joseph M., Chang, Chun, Fedyn

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 347 KB

english, 2003

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1995 Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA (Sunday 19 February 1995)] Advances in Resist Technology and Processing XII - Spectroscopic characterization of molecular interactions between DNQ-PACs and phenolic resins using selectively nitrogen-15 labeled DNQs

Borzo, Marie, Rafalko, Joseph J., Joe, Monica, Dammel, Ralph R., Rahman, M. D., Ziliox, Martine A., Allen, Robert D.

Рік:

1995

Мова:

english

Файл:

PDF, 281 KB

english, 1995

Photoresists for microlithography, or the Red Queen’s race

Dammel, Ralph R.

Журнал:

Journal of Micro/Nanolithography MEMS and MOEMS

Рік:

2002

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.14 MB

english, 2002

Introduction: Grammar of names and grammar out of names

Handschuh, Corinna, Dammel, Antje

Журнал:

Language Typology and Universals

Рік:

2019

Файл:

PDF, 1.69 MB

2019

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '99 - Santa Clara, CA (Sunday 14 March 1999)] Advances in Resist Technology and Processing XVI - Lithographic process for high-resolution metal lift-off

Redd, Randy, Spak, Mark A., Sagan, John P., Lehar, Octavia P., Dammel, Ralph R., Conley, Will

Рік:

1999

Мова:

english

Файл:

PDF, 3.41 MB

english, 1999

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Advanced Lithography - San Jose, California, USA (Sunday 27 February 2011)] Advances in Resist Materials and Processing Technology XXVIII - Negative photo-imageable spin-on dielectrics: report on progress, challenges, and opportunities

Zhang, Ruzhi M., Allen, Robert D., Somervell, Mark H., Lee, Chien-Hsien S., Wolfer, Elizabeth, Nagahara, Tatsuro, Neisser, Mark, Dammel, Ralph R.

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 944 KB

english, 2011

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2003 - Santa Clara, CA (Sunday 23 February 2003)] Advances in Resist Technology and Processing XX - Baking study of fluorinated 157-nm resist

Houlihan, Francis M., Sakamuri, Raj, Romano, Andrew R., Dammel, Ralph R., Conley, Will, Rich, Georgia K., Miller, Daniel, Rhodes, Larry F., McDaniels, Joseph M., Chang, Chun, Fedynyshyn, Theodore H.

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 526 KB

english, 2003

The Photopolymer Science and Technology Award

Dammel, Ralph R.

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2011

Мова:

english

Файл:

PDF, 53 KB

english, 2011

Substituted polyhydroxystyrenes as matrix resins for chemically amplified deep UV resist materials

Georg Pawlowski, Ralph Dammel, Charlotte Eckes, Charlet R. Lindley, Winfried Meier, Klaus-Jürgen Przybilla, Horst Röschert, Walter Spiess

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 344 KB

english, 1991

Heat transfer from a continuous liquid to an evaporating drop: a numerical analysis

Frank Dammel, Hans Beer

Журнал:

International Journal of Thermal Sciences

Рік:

2003

Мова:

english

Файл:

PDF, 348 KB

english, 2003

Density of activated sludge solids

E.E. Dammel, E.D. Schroeder

Журнал:

Water Research

Рік:

1991

Мова:

english

Файл:

PDF, 646 KB

english, 1991

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '97 - Santa Clara, CA (Monday 10 March 1997)] Advances in Resist Technology and Processing XIV - Photoresist characterization for lithography simulation: III. Development parameter measurements

Henderson, Clifford L., Tsiartas, Pavlos C., Pancholi, Sanju, Chowdhury, Sajed A., Dombrowski, Katherine D., Willson, C. Grant, Dammel, Ralph R., Tarascon-Auriol, Regine G.

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 399 KB

english, 1997

Photoelectron spectra and molecular properties. 107. The isomers of trifluoromethyl isocyanide and trifluoroacetonitrile: photoelectron spectra, thermal rearrangement, and effects of fluorine substitution on parent molecules C2H3N

Bock, H., Dammel, R., Lentz, D.

Журнал:

Inorganic Chemistry

Рік:

1984

Мова:

english

Файл:

PDF, 716 KB

english, 1984

A Percolation View of Novolak Dissolution. 3. Dissolution Inhibition

Shih, Hsiao-Yi, Yeh, Tung-Feng, Reiser, Arnost, Dammel, Ralph R., Merrem, Hans J., Pawlowski, Gerhard

Журнал:

Macromolecules

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 803 KB

english, 1994

SPIE Proceedings [SPIE Micro - DL Tentative - San Jose, CA (Sunday 1 March 1992)] Advances in Resist Technology and Processing IX - Novel DNQ PACs for high-resolution i-line lithography

Brunsvold, William R., Eib, Nicholas K., Lyons, Christopher F., Miura, Steve S., Plat, Marina V., Dammel, Ralph R., Evans, O. B., Rahman, M. D., Khanna, Dinesh N., Jain, Sangya, Lu, Ping-Hung, Ficner,

Рік:

1992

Мова:

english

Файл:

PDF, 974 KB

english, 1992

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '97 - Santa Clara, CA (Monday 10 March 1997)] Advances in Resist Technology and Processing XIV - Non-chemically amplified 248-nm resist materials

Willson, C. Grant, Yueh, Wang, Leeson, Michael J., Steinhaeusler, Thomas, McAdams, Christopher L., Dammel, Ralph R., Sounik, James R., Aslam, M., Vicari, Richard, Sheehan, Michael T., Tarascon-Auriol,

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 704 KB

english, 1997

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '97 - Santa Clara, CA (Monday 10 March 1997)] Optical Microlithography X - Photoresist materials: a historical perspective

Willson, C. Grant, Dammel, Ralph R., Reiser, Arnost, Fuller, Gene E.

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.18 MB

english, 1997

Germanistische Sprachwissenschaftby Peter Ernst

Review by: Antje Dammel

Журнал:

Zeitschrift für Dialektologie und Linguistik

Рік:

2007

Мова:

german

Файл:

PDF, 411 KB

german, 2007

SPIE Proceedings [SPIE 23rd Annual International Symposium on Microlithography - Santa Clara, CA, United States (Sunday 22 February 1998)] Advances in Resist Technology and Processing XV - Modeling parameter extraction for DNQ-novolak thick film resists

Henderson, Clifford L., Scheer, Steven A., Tsiartas, Pavlos C., Rathsack, Benjamen M., Sagan, John P., Dammel, Ralph R., Erdmann, Andreas, Willson, C. Grant

Рік:

1998

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.14 MB

english, 1998

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography '97 - Santa Clara, CA (Monday 10 March 1997)] Advances in Resist Technology and Processing XIV - Photoresist characterization for lithography simulation: II. Exposure parameter measurements

Henderson, Clifford L., Pancholi, Sanju, Chowdhury, Sajed A., Willson, C. Grant, Dammel, Ralph R., Tarascon-Auriol, Regine G.

Рік:

1997

Мова:

english

Файл:

PDF, 417 KB

english, 1997

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2005 - San Jose, CA (Sunday 27 February 2005)] Advances in Resist Technology and Processing XXII - Resist component leaching in 193-nm immersion lithography

Dammel, Ralph R., Sturtevant, John L., Pawlowski, Georg, Romano, Andrew, Houlihan, Frank M., Kim, Woo-Kyu, Sakamuri, Raj, Abdallah, David

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 187 KB

english, 2005

SPIE Proceedings [SPIE Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 25 February 2007)] Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIV - Novel diamantane polymer platform for enhanced etch resistance

Padmanaban, Munirathna, Lin, Qinghuang, Chakrapani, Srinivasan, Lin, Guanyang, Kudo, Takanori, Parthasarathy, Deepa, Rahman, Dalil, Anyadiegwu, Clement, Antonio, Charito, Dammel, Ralph R., Liu, Shengg

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 936 KB

english, 2007

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2005 - San Jose, CA (Sunday 27 February 2005)] Advances in Resist Technology and Processing XXII - Understanding the photoresist surface-liquid interface for ArF immersion lithography

Conley, Will, Sturtevant, John L., LeSuer, Robert J., Fan, Frank F., Bard, Allen J., Taylor, Chris, Tsiartas, Pavlos, Willson, Grant, Romano, Andrew, Dammel, Ralph

Рік:

2005

Мова:

english

Файл:

PDF, 232 KB

english, 2005

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2000 - Santa Clara, CA (Sunday 27 February 2000)] Advances in Resist Technology and Processing XVII - Solvent content of thick photoresist films

Lehar, Octavia P., Sagan, John P., Zhang, Lizhong, Dammel, Ralph R., Houlihan, Francis M.

Рік:

2000

Мова:

english

Файл:

PDF, 755 KB

english, 2000

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Advances in Resist Technology and Processing XXI - Recent advances in fluorinated resists for application at 157 nm

Houlihan, Francis M., Sturtevant, John L., Sakamuri, Raj, Romano, Andrew, Rentkiewicz, David, Dammel, Ralph R., Conley, Willard E., Miller, Daniel A., Sebald, Michael, Stepanenko, Nickolay, Markert, M

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.70 MB

english, 2004

SPIE Proceedings [SPIE Advanced Lithography - San Jose, CA (Sunday 25 February 2007)] Advances in Resist Materials and Processing Technology XXIV - Some non-resist component contributions to LER and LWR in 193-nm lithography

Kudo, Takanori, Lin, Qinghuang, Chakrapani, Srinivasan, Lin, Guanyang, Anyadiegwu, Clement, Antonio, Charito, Parthasarathy, Deepa, Dammel, Ralph R., Padmanaban, Munirathna

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 898 KB

english, 2007

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Advances in Resist Technology and Processing XXI - PEB sensitivity studies of ArF resists: II. Polymer and solvent effects

Hong, Chi-Sun, Sturtevant, John L., Lee, Sang-Ho, Kim, Woo-Kyu, Kudo, Takanori, Timko, Allen, Mckenzie, Douglas, Anyadiegwu, Clement, Rahman, Dalil M., Lin, Guanyang, Dammel, Ralph R., Padmanaban, Mun

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 89 KB

english, 2004

SPIE Proceedings [SPIE Microlithography 2004 - Santa Clara, CA (Sunday 22 February 2004)] Advances in Resist Technology and Processing XXI - Effect of the rinse solution to avoid 193-nm resist line collapse: a study for modification of resist polymer and process conditions

Masuda, Seiya, Sturtevant, John L., Kobayashi, Masakazu, Kim, Woo-Kyu, Anyadiegwu, Clement, Padmanaban, Munirathna, Dammel, Ralph R., Tanaka, Keiichi, Yamada, Yoshiaki

Рік:

2004

Мова:

english

Файл:

PDF, 475 KB

english, 2004

SPIE Proceedings [SPIE SPIE's 1994 Symposium on Microlithography - San Jose, CA (Sunday 27 February 1994)] Advances in Resist Technology and Processing XI - Molecular bases for the interaction between novolaks and diazonaphthoquinone photoactive compounds

Borzo, Marie, Rafalko, Joseph J., Dammel, Ralph R., Nalamasu, Omkaram

Рік:

1994

Мова:

english

Файл:

PDF, 258 KB

english, 1994

SPIE Proceedings [SPIE SPIE Lithography Asia - Taiwan - Taipei, Taiwan (Tuesday 4 November 2008)] Lithography Asia 2008 - Bottom anti-reflective coating for hyper NA process: theory, application and material development

Yao, Huirong, Chen, Alek C., Lin, Burn, Cho, JoonYeon, Yin, Jian, Yen, Anthony, Mullen, Salem, Lin, Guanyang, Neisser, Mark, Dammel, Ralph

Рік:

2008

Мова:

english

Файл:

PDF, 368 KB

english, 2008

Spin-on Trilayer Approaches to High NA 193nm Lithography

Abdallah, D. J., Mckenzie, D., Timko, A., Dioses, A., Houlihan, F., Rahman, D., Miyazaki, S., Zhang, R., Kim, W., Wu, H., Pylneva, L., Lu, P-H., Nisser, M., Dammel, R. R.

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2007

Мова:

english

Файл:

PDF, 482 KB

english, 2007

Effect of Amine Additives on LWR and LER as Studied by Extraction Parameters

Houlihan, Francis M., Rentkiewicz, David, Lin, Guanyang, Rahman, Dalil, Mackenzie, Dougls, Timko, Allen, Kudo, Takanori, Anyadiegwu, Clement, Thiyqarqjan, Muthiah, Chiu, Simon, Romano, Andrew, Dammel,

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2006

Файл:

PDF, 2.23 MB

2006

Materials and Resists for 193 and 157nm Applications.

Padmanaban, Munirathna, Alemy, Eric, Bae, Jun-Bom, Kim, Woo-Kyu, Kudo, Takanori, Masuda, Seiya, Rahman, Dalil, Sakamuri, Raj, Dammel, Ralph, Jung, Jae-Chang, Lee, Sung-Koo, Shin, Ki-Soo

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2001

Мова:

english

Файл:

PDF, 4.73 MB

english, 2001

New Fluorinated Resins for 157 nm Lithography Application

Houlihan, Francis, Romano, Andrew, Rentkiewicz, David, Sakamuri, Raj, Dammel, Ralph R., Conley, Will, Rich, Georgia, Miller, Daniel, Rhodes, Larry, McDaniels, Joe, Chang, Chun

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2003

Файл:

PDF, 2.11 MB

2003

193 nm Immersion Lithography-Taking the Plunge

Dammel, Ralph, Houlihan, Frank M., Sakamuri, Raj, Rentkiewicz, David, Romano, Andrew

Журнал:

Journal of Photopolymer Science and Technology

Рік:

2004

Файл:

PDF, 1.46 MB

2004

ChemInform Abstract: ANALYSIS AND OPTIMIZATION OF GAS-PHASE REACTIONS. 18. THE PYROLYSIS OF METHYL L AZIDE

BOCK, H., DAMMEL, R., HORNER, L.

Журнал:

Chemischer Informationsdienst

Рік:

1981

Файл:

PDF, 100 KB

1981

Numerische Simulation der Verdampfung eines Tropfens im Direkt-Kontakt

F. Dammel, H. Beer

Журнал:

Chemie Ingenieur Technik

Рік:

2001

Мова:

german

Файл:

PDF, 409 KB

german, 2001

Phenylsilaisocyanid, die erste Organosiliciumverbindung mit formaler SiN-Dreifachbindung

Prof. Dr. Hans Bock, Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie

Рік:

1985

Мова:

german

Файл:

PDF, 341 KB

german, 1985

Die Pyrolyse von Aziden in der Gasphase

Prof. Dr. Hans Bock, Dr. Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie

Рік:

1987

Мова:

german

Файл:

PDF, 2.09 MB

german, 1987

(Mesityl)2Ge(Fluorenyliden) — Stabilisierung einer Ge-C-Doppelbindung durch Ladungsübertragung in ein aromatisches System

Mohamed Lazraq, Dr. Jean Escudié, Dr. Claude Couret, Prof. Dr. Jacques Satgé, Prof. Dr. Martin Dräger, Dr. Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie

Рік:

1988

Файл:

PDF, 340 KB

1988

Phenyl Silaisocyanide: The First Organosilicon Compound with a Formal SiN Triple Bond

Prof. Dr. Hans Bock, Dipl.-Chem. Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie International Edition

Рік:

1985

Мова:

english

Файл:

PDF, 309 KB

english, 1985

The Pyrolysis of Azides in the Gas Phase

Prof. Dr. Hans Bock, Dr. Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie International Edition

Рік:

1987

Мова:

english

Файл:

PDF, 2.38 MB

english, 1987

(Mesityl)2Ge(fluorenylidene)–Stabilization of a Ge–C Double Bond by Charge Transfer into an Aromatic System

Mohamed Lazraq, Dr. Jean Escudié, Dr. Claude Couret, Prof. Dr. Jacques Satgé, Prof. Dr. Martin Dräger, Dr. Ralph Dammel

Журнал:

Angewandte Chemie International Edition

Рік:

1988

Мова:

english

Файл:

PDF, 311 KB

english, 1988

Analyse und Optimierung von Gasphasen-Reaktionen, 181,2) Die Pyrolyse von Methylazid

Hans Bock, Ralph Dammel, Leopold Horner

Журнал:

European Journal of Inorganic Chemistry

Рік:

1981

Файл:

PDF, 313 KB

1981

Gasphasen-Reaktionen, 611) Cycloalkanimine 2H-Azirin, 1-Azetin, 1-Pyrrolin, 1-Piperidein und 3,4,5,6-Tetrahydro-2H-azepin: Darstellung und Photoelektronen-Spektren2,3)

Hans Bock, Ralph Dammel

Журнал:

European Journal of Inorganic Chemistry

Рік:

1987

Файл:

PDF, 1.24 MB

1987

Gasphasen-Reaktionen, 601) Methanimine RR′CNR″: Darstellung und Photoelektronen-Spektren2–4

Hans Bock, Ralph Dammel

Журнал:

European Journal of Inorganic Chemistry

Рік:

1987

Файл:

PDF, 915 KB

1987

The photoelectron spectrum of 1-azetine

R. Dammel, H. Bock, J.-M. Denis

Журнал:

Chemical Physics Letters

Рік:

1983

Мова:

english

Файл:

PDF, 347 KB

english, 1983

Optimization of gasphase reactions using real-time pes analysis: short-lived molecules and heterogeneously catalyzed processes

H. Bock, B. Solouki, S. Aygen, M. Bankmann, O. Breuer, R. Dammel, J. Dörr, M. Haun, T. Hirabayashi, D. Jaculi, J. Mintzer, S. Mohmand, H. Müller, P. Rosmus, B. Roth, J. Wittmann, H.-P. Wolf

Журнал:

Journal of Molecular Structure

Рік:

1988

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.05 MB

english, 1988

Photocatalytic novolak-based positive resist for X-ray lithography - kinetics and simulation -

R. Dammel, K.F. Dössel, J. Lingnau, J. Theis, H.L. Huber, H. Oertel

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

1987

Мова:

english

Файл:

PDF, 311 KB

english, 1987

Laser plasma as X-ray source for lithographic imaging of submicron structures onto experimental X-ray resist

F. Bijkerk, G.E. van Dorssen, M.J. van der Wiel, R. Dammel, J. Lingnau

Журнал:

Microelectronic Engineering

Рік:

1989

Мова:

english

Файл:

PDF, 1.05 MB

english, 1989