Prospects and challenges for SiGe strained-layer epitaxy

T.P. Pearsall

Наскільки Вам сподобалась ця книга?

Яка якість завантаженого файлу?

Скачайте книгу, щоб оцінити її якість

Яка якість скачаних файлів?

Том:

184

Рік:

1990

Мова:

english

Сторінки:

DOI:

10.1016/0040-6090(90)90444-i

Файл:

PDF, 498 KB

english, 1990

Виконується конвертація в

Конвертація в не вдалась